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台积电宣称2022年商业化量产3nm工艺芯片

发布时间:2021-11-11 15:00:02 所属栏目:产品 来源:互联网
导读:近日有消息称:台积电将于 2022 年将其 N3(3 nm)EUV 硅制造节点商业化,并将于下半年开始量产。对于3nm工艺的竞争,目前只剩下台积电与三星两家公司,而三星上个月公开表示,其3nm工艺上分为两个版本,其中3GAE(低功耗版)将在2022年年初投入量产,3GAP(高性
近日有消息称:台积电将于 2022 年将其 N3(3 nm)EUV 硅制造节点商业化,并将于下半年开始量产。对于3nm工艺的竞争,目前只剩下台积电与三星两家公司,而三星上个月公开表示,其3nm工艺上分为两个版本,其中3GAE(低功耗版)将在2022年年初投入量产,3GAP(高性能版)则会在2023年年初批量生产。
 
 
根据之前数据统计可见,3nm 工艺节点的晶体管密度增量变得更大,三星预计提供的密度仅为 170 万,而台积电 3nm 的密度为 290 万(尽管未使用 GAA)。
 
 
不过面对台积电的压制,三星称3nm工艺将采用全新的GAA(Gate-all-around,环绕栅极)技术。相比于FinFET晶体管技术,GAAFET 架构的晶体管提供更好的静电特性,这样漏电功率会降低,从而功耗降低。
 
 
相信为了稳住客户,台积电才于今日宣布2022年商业化量产3nm工艺芯片。而且之前也传出台积电的N3制造节点还会衍生出一个N3E版本,可以视为增强版,有更好的性能、功耗、良品率,同时设计和IP上完全兼容N3,2024年量产。
 
值得提到的是,台积电也在寻求最大限度地提高其当前 N5 (5 nm) 节点的容量,以便满足苹果、AMD等大客户的需求。

(编辑:武汉站长网)

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